恒溫金屬浴

簡(jiǎn)要描述：恒溫金屬浴：控溫精度高，制樣平行性好，以代替?zhèn)鹘y(tǒng)的水浴裝置,可廣泛應(yīng)用于各種分析儀器樣品的培養(yǎng)、煮沸、去活化、濕消化、樣品濃縮和酶分析保存和反應(yīng)、DNA擴(kuò)增和電泳的預(yù)變性、血清凝固等.行業(yè)遍及醫(yī)藥、化工、食品安全、質(zhì)檢、環(huán)境等

產(chǎn)品型號(hào)：HTL-200JS
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間：2024-10-09
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恒溫金屬浴 可定制

恒溫金屬浴：控溫精度高，制樣平行性好，以代替?zhèn)鹘y(tǒng)的水浴裝置,可廣泛應(yīng)用于各種分析儀器樣品的培養(yǎng)、煮沸、去活化、濕消化、樣品濃縮和酶分析保存和反應(yīng)、DNA擴(kuò)增和電泳的預(yù)變性、血清凝固等.行業(yè)遍及醫(yī)藥、化工、食品安全、質(zhì)檢、環(huán)境等

常用于分子生物學(xué)實(shí)驗(yàn)，如酶切、蛋白質(zhì)變性、融化瓊脂糖、核酸擴(kuò)增檢測(cè)預(yù)反應(yīng)等，以及其它實(shí)驗(yàn)的樣本保存、血清快速析出、凝固等，無(wú)須擔(dān)心水意外進(jìn)到反應(yīng)管中而影響到實(shí)驗(yàn)，又可避免了傳統(tǒng)水浴加熱污染的問(wèn)題。此外控溫更精，可控溫范圍也更大。是傳統(tǒng)水浴裝置的良好替代品

恒溫金屬浴技術(shù)參數(shù)

型號(hào)	HTL系列
加熱塊容量	恒溫金屬浴可選模塊/可定制
溫度控制	智能PID控制系統(tǒng)
控溫范圍	室溫~300°C
控溫精度	±0.1~0.5℃
溫度均勻性	±0.5℃
顯示精度	0.1℃
定時(shí)范圍	1～9999分鐘（小時(shí)）或連續(xù)運(yùn)行
升溫時(shí)間	≤30 分鐘（30℃至160℃）
電壓/頻率	220VAC±10%或110VAC±10% 50/60Hz
尺寸	定制
凈重	定制

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